浙江大学大型仪器共享服务平台

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

仪器图片暂无

光刻机:

实现光刻图形转移。

场发射扫描电子显微镜:

<span style="color: rgb(68, 67, 64); font-family: -apple-system, BlinkMacSystemFont, "Segoe UI", Roboto, Oxygen-Sans, Ubuntu, Cantarell, "Helvetica Neue", sans-serif; letter-spacing: 1px; text-align: justify; background-color: rgb(255, 255, 255);">相比于光学显微镜，电子显微镜（<span style="color: rgb(68, 67, 64); font-family: -apple-system, BlinkMacSystemFont, "Segoe UI", Roboto, Oxygen-Sans, Ubuntu, Cantarell, "Helvetica Neue", sans-serif; font-size: 14px; letter-spacing: 1px; text-align: justify; background-color: rgb(255, 255, 255);">SEM）具备更高的分辨率。电子显微镜是通过利用电子束与物质相互作用产生的信号，以高分辨率和高放大倍数来观察和分析研究样品的微观结构(表面几何形态，形状，尺寸) 　和组成。<span style="font-size: 14px; color: rgb(68, 67, 64); font-family: -apple-system, BlinkMacSystemFont, "Segoe UI", Roboto, Oxygen-Sans, Ubuntu, Cantarell, "Helvetica Neue", sans-serif; letter-spacing: 1px; text-align: justify; background-color: rgb(255, 255, 255);">配备用于元素分析的X射线能谱分析仪（EDS）<span style="background-color: rgb(255, 255, 255); color: rgb(68, 67, 64); font-family: -apple-system, BlinkMacSystemFont, "Segoe UI", Roboto, Oxygen-Sans, Ubuntu, Cantarell, "Helvetica Neue", sans-serif; font-size: 14px; letter-spacing: 1px; text-align: justify;">和能量选择背散射电子探头（ESB）

光学传递函数分析仪:

实现光学系统MTF测试。

电子束曝光机:

主要功能是电子束直写，可以多层套刻，也可与接触式光刻机配合进行混合光刻（Mix & Match），以便在大尺寸器件上制作微纳精细结构。

显示器影像品质特性测量系统:

主要用于测试显示器的影像品质，可以测量几乎所有种类显示器的品质及特性。

共聚焦荧光显微镜:

主要功能 : 光学显微，观察材料表面的形貌。同时也是后续更加高级的共聚焦荧光系统的基本组件。

12T无液氦超导磁体系统:

低温光电磁结合测量平台

激光振镜扫描系统:

用于搭建各种超分辨率显微成像系统

电子束蒸发镀膜机:

主要用于制备高质量介质、半导体、及金属薄膜

荧光光谱仪:

外量子效率仪:

外量子效率（External Quantum Efficiency, EQE）是光电探测器的主要性能指标之一。其数值为收集到的电子数与入射光子数之比。

数字示波器:

I2C、SPI、CAN、RS-232/UART、LIN、串行解码、FPGA调试和离线测量

信号质量分析仪:

MP1900A 信号质量分析仪，可广泛用于光器件和电器件及高速接口的信号质量分析。

矢量网络分析仪:

带宽：10KHz-10GHz；最高频率：40GHz；支持输入输出参数：S11 S21 S12  S22 及用户组合参数 a1 a2 b1 b2；数据量：1600 采样点；显示：8.5' 直方图

微弱光信号探测器 :

用于探测科研过程中非常微弱的光信号以及纳秒级时间分辨信号，如荧光瞬态过程分析，等离子体寿命过程分析、激光诱导等离子体过程分析等。

自相关仪:

脉冲宽度是脉冲激光器的重要性能指标，利用扫描自相关仪可以测量飞秒和皮秒量级的脉冲宽度，具有高分辨、高灵敏度和使用方便等优点。

切割机:

微电子管芯的切割、集成芯片的切割等共享学科主要包括：光电、微电子、材料、物理等

制冷型成像仪:

实现对3－5微米的红外光线成像。

任意波信号发生器:

电子束镀膜机:

ZZS-700-6/G

任意波形发生器:

用于激光通信中的信号发生模块，可提供高速率大容量的信号，产生任意波形，仿真模拟更复杂的信号要求，广泛应用于高速激光通信研究中，对学科研究具有重要价值。

光谱仪:

对大分子、细胞、纳米颗粒进行不同波长的荧光成像

频谱分析仪:

频谱测量和分析

连续单纵模可调谐激光器:

普通激光器的模式可以分为横模和纵模。横模是激光光束在横截面上的光场分布，换句话说，就是对着激光发射口看到的激光光场分布。纵模是指，在激光腔内有若干可以起振的激光，笼统上讲，每一个可以在腔内稳定震荡的频率光都是一个纵模，纵模就是这些频率的叠加，所谓单纵模可以大致等效于单频，就是单色性很好，频率很单一的激光。每一种分子、原子都有它固有的频谱特性；对物质结构的表征和研究也多依赖于光谱学。激光的谱线宽度窄、强度高和方向性好等独特优点给光谱学带来了全新的面貌，它不仅具有极高的光谱分辨率和探测灵敏度，而且还开拓了包括非线性效应和相干拉曼光谱学等在内的许多新领域。

三维干涉显微镜（白光轮廓仪）:

在0.1nm到1mm(注意只能测试高度差1mm以内样品)的垂直扫描范围内提供了快速、高精度的三维表面形貌测量功能，适用于测量塑料、金属、石墨烯、水凝胶等各种样品的微结构形貌、医疗器械（钛片，牙齿，支架等）粗糙度、光学器件三维形貌粗糙度等。比较适合微米量级测量，片幅最小尺度是50*50um，最大范围可以到厘米量级，可以借助拼接手段。对于横向尺寸，样品大小，没有特别要求。

可调激光器系统:

可调激光器系统应用范围包括硅基光电子器件及光互连应用、表面等离子激元材料器件及应用、微纳加工技术及仪器、微纳流控光子学器件及应用、人工光电材料器件及应用等。

傅里叶红外光谱仪（FTIR）:

傅里叶红外光谱仪(FTIR)可以用来研究物质的化学结构，确定物质的组成结构（分子结构、官能团等特征信息）；附件名称及规格：HYPERION红外显微镜（可以测试小样品（包括样品上的不同区域）。使用液氮制冷型探测器，信噪比大，探测灵敏度高。）

四轴大行程精密扫描系统:

高次曲面表面缺陷定量检测和子孔径拼接中，该设备可以保证运动平台在测量时的高精度定位和光学光学系统准确对焦。该设备指标在国内属于领先水平。

光致量子效率测试仪:

测试近红外光致发光量子效率

PI光谱仪:

高分辨率光谱仪

反应离子蚀刻机:

进行元件刻蚀加工。

飞秒激光器:

产生近红外波段高重频的飞秒超快光脉冲，用于研究时间分辨荧光光谱、非线性光谱学、超快成像等方面

磁控溅射镀膜机:

在真空环境下，利用物理沉淀的方式（包括磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发、有机蒸发等，本台设备主要选用磁控溅射的方式）在材料基片表面匀镀一层微纳尺度的金属或半导体膜。

光纤熔接机:

大芯径光纤熔接机可以处理各种标准光纤和特种光纤，进行光纤对接熔接、光纤端面清洁、光纤类型鉴别及其他光纤端面处理，可以进行包括光子晶体光纤在内的保偏熔接。该设备内置实时控制系统和强大的可编程语言允许用户开发独特的应用程序，可以对未知光纤进行自动光纤熔点搜寻设置。

原子层沉积系统:

该设备可在不同的基板上(平面、复杂三维、多孔基板和粉末)制备薄膜，通过自限制的化学反应（脉冲CVD），可在原子量级控制薄膜厚度，同时其具有优异的沉积共形性，因此特别适合于微/纳光子器件的制作。通过改变反应前聚体，它可沉积氧化物、氟化物等介质薄膜以及Au、Ag等金属薄膜，因而它同时适合于复杂基板上高品质光学薄膜的制备。

飞秒激光器:

适合材料的非线性研究，适合物理学、化学、生物医学、材料、通信等领域。说明：飞秒可进行超快瞬态现象的研究，包括时间分辨光谱学、瞬态光谱学、强场效应、飞秒光脉冲产生、太赫兹电磁波辐射、飞秒激光诱导向前转移(fsLIFT)技术等。例如，在生物学领域，利用飞秒激光技术所提供的差异吸收光谱、泵浦-探测技术,，可研究光合作用反应中心的传能、转能与电荷分离过程；在材料学领域，飞秒脉冲激光与纳米显微术的结合，使人们可以研究半导体的纳米结构(量子线、量子点和纳米晶体)中的载流子动力学；在通信领域，超短脉冲激光还被应用于信息的传输、处理与存贮等方面研究。

超高精度矿物材料磨抛加工机床:

该机床具有CNC单点金刚石超精密车削，磨削等多种加工功能，可对金属、玻璃、PMMA等各种材料的零件，进行球面、非球面、和自由曲面等形状的纳米级超精密镜面加工，最大加工口径500mm。

高温退火氧化炉:

该工艺炉的主要功能包括：高温氧化实现二氧化硅层、高温退火

傅里叶光变换红外光谱显微镜系统:

傅立叶红外光谱仪是分析化学应用最广泛的仪器，主要应用于物质的定性定量检测。分子中的某些基团或化学键在不同化合物中所对应的谱带波数基本上是固定的或只在小波段范围内变化，因此许多有机官能团例如甲基、亚甲基、羰基，氰基，羟基，胺基等等在红外光谱中都有特征吸收，通过红外光谱测定，人们就可以判定未知样品中存在哪些有机官能团，这为最终确定未知物的化学结构奠定了基础。

溅射电源:

主要功能：制备高精度、高质量薄膜。应用范围：光学薄膜，光电薄膜，功能薄膜等。可与物理，材料，能源等学科共享。

皮秒脉冲激光器:

主要功能：稳定输出高重频、强峰值功率1.064双波长皮秒脉冲激光。

单靶磁控溅射设备:

双通道功率/能量计测试系统 :

测量光路中的光功率，以便绝对的知道能量分布情况，从而根据需要调整光学结构和光源功率。教学中，可用于激光等光学实验。

磁控溅射镀膜设备:

光电子薄膜的制备

离子束溅射镀膜系统:

溅射镀膜

台阶仪（轮廓仪）:

可用于薄膜、镀层、微结构等厚度的测量及线粗糙度测量。

双光子显微镜:

体内双光子成像 In vivo two-photon imaging 电生理记录和成像 Electrophysiological recording and imaging 非水平表面显微成像Non-horizontal surface microscopy 视网膜刺激和双子成像的同时实现Simultaneous retinal stimulation and two photon microscopy

锁相放大器:

微弱光电信号的检测，如微弱外差干涉信号的检测，低反射表面（断层）光信号检测等。

干涉仪:

实现光学器件表面形貌的测量。

准分子激光器:

作为光纤光栅刻写及光纤微加工平台光源，属于系统核心设备。用于微结构光纤器件制备

中波红外光谱仪:

主要功能：用于中波红外段的光谱分析

光示波器:

激光时频信号特征采集和分析

PECVD镀膜机:

主要用于制备高质量介质、半导体、及金属薄膜

氩离子激光器:

激光光源

接触角表面张力测量仪:

测量接触角、表面张力。特别适合超亲水材料的视频拍摄。样品数据包含整个过程视频。

采样示波器:

信号采集和分析

准分子激光器:

高性能干法刻蚀设备:

可编程逻辑，设备加载锁功能，支持3-6英寸基板尺寸，双通道进气

光刻机:

wafer size：up to 150mm / 6"(round) ;Min pieces:5 x 5mm ;mask size:SEMI spec,standard up to 7 x 7

特种光纤熔接系统:

主要功能：能够高质量的熔接各种直径的保偏光纤和光子晶体光纤。具有拉锥功能。

聚焦离子束微纳加工系统:

基于玻璃、光学晶体、氧化物等介质材料的低维纳米线、条、孔等导波结构的精密制备；纳米尺度的金属表面等离子体共振结构、导波结构、衬底结构的制备和加工；亚波长量级的光子晶体结构、负折射率材料结构的加工制备；氧化物半导体纳米结构的高精度表面处理、结构加工和制备；其他无源和有源纳米光子结构和材料的制备和改性，各种微纳结构剖面观察。该设备购置以来，为材料、物理、化学、生物、光电等相关学科的研究人员提供各种微纳结构的加工服务。

切割机:

晶圆切割晶圆切割（Dicing），也叫划片（Die Sawing），是将一个晶圆上单独的die通过高速旋转的金刚石刀片（也有激光切割技术）切割开来，形成独立的单颗的晶片，是半导体器件加工中一个重要的步骤。

特种光纤熔接机:

大芯径光纤切割、光纤熔接、光纤端面观察、光纤自动对轴对准功能等。

振动样品磁强计:

可完成材料的磁光学性质、磁滞回线、起始磁化曲线、退磁曲线及温度特性曲线、IRM和DCD曲线的测量，具有测量简单、快速和界面友好等特点。

三维半球形光学系统Imaging Sphere:

实现散射和外观特性测量; 光源光强测量; 显示器视角测量等。

用于精密光学传感器加工系统激光光源:

激光光源

感应耦合等离子刻蚀机:

等离子体刻蚀，半导体加工，金属加工，印刷电路加工

梯度功率放大器:

梯度放大

显微共焦拉曼光谱仪:

荧光和拉曼可测

光学弱吸收仪:

对玻璃、晶体以及薄膜表面吸收和体吸收的测试，为薄膜制备工艺的研究，特别是弱吸收薄膜的研制提供了技术支持。

相关网站

友情链接

浙江大学实验室与设备管理处